KARAKTERISASI PERALATAN FABRIKASI PELAPISAN BUFFER KERNEL UO2 (BUFFER LAYER) MENGGUNAKAN MATERIAL SURROGATE KERNEL UO2

Peralatan fabrikasi pelapisan buffer kernel UO2 tersinter digunakan untuk menyiapkan bahan kernel UO2terlapis (TRISO) yang selanjutnya digunakan untuk pembuatan bahan bakar reaktor daya eksperimental (RDE) tipe HTGR model bahan bakar pebble bed. Bahan surrogate kernel UO2 digunakan dalam proses pelapisan dengan sistem peralatan FB-CVD (Fluidized Bed-chemical Vapor Deposition). Proses pokok pada pembuatan pelapisan surrogate kernel UO2ini adalah dari pembuatan kernell (Zr,Ce)O2 ini meliputi pembuatan larutan sol, proses gelasi larutan sol menjadi gel zirkonium-cerium, pencucian gel, pengeringan gel, kalsinasi, sintering dan proses pelapisan. Karakterisasi peralatan fabrikasi pelapisanalat FB-CVD meliputi penguasaan sistem pengoperasian alat, modifikasi dan perbaikan peralatan Pengoperasian alat pelapisan menggunakan sistem peralatan FB-CVD perlu memperhatikan hal hal yang menentukan terhadap pembuatan hasil pelapisan bahan surrogate kernel UO2 yang baik, agar hasil yang diperoleh dapat dilanjutkan dengan proses berikutnya. Pembuatan Gel yang baik dapat diproses menjadi kernel tersinter yang memenuhi syarat untuk dilakukan proses pelapisan menjadi partikel terlapis. Pada karakterisasi operasi peralatan fabrikasi pelapisan buffer kernel UO2 tersinter beberapa parameter sangat menentukan hasil dari proses pelapisan ini antara lain suhu pada reaktor pelapisan, aliran gas proses, dan waktu pemanasan. Untuk parameter suhu proses lapisan buffer digunakan suhu 1100-
1400 oC dengan waktu pemanasan adalah 30 menit dan 1 jam terhitung suhu pelapisan tercapai, dengan aliran gas campuran total (Argon dan asetelin) 5 Liter/menit.Kecepatan aliran gas ini
diharapkan dapat menyebabkan proses fluidisasi pada reaktor pelapisan alat FB-CVD. Ujicoba peralatan pelapisan alat FB-CVD telah dilakukan dan alat dapat beroperasi dengan baik untuk
proses pelapisan tahap awal yaitu pelapisan buffer kernel UO2 dari tahapan pelapisan keseluruhan pada partikel terlapis (TRISO).

Kata kunci : Pelapisan Buffer, FB-CVD, Partikel Terlapis