KAJIAN PEMANFAATAN AKSELERATOR ION UNTUK INDUSTRI KOMPONEN MIKROELEKTRONIK

KAJIAN PEMANFAATAN AKSESERATOR ION UNTUK INDUSTRI MIKROELEKTRONIKA. Telah dikaji pemanfaatan akselerator ion untuk industri mikroelektronika. Tujuan dari kajian ini adalah untuk mempersiapkan dokumen tentang pemanfaatan teknologi akselerator ion untuk industri mikroelektronika.
Hal tersebut berkaitan dengan rencana pembangunan laboratorium berbasis akselerator di P3TM BATAN
Yogyakarta. Akselerator ion sebagai alat untuk mempercepat partikel ion dengan energi tertentu. Partikel ion sebagai proyektil akan menumbuk atom target sehingga material target akan terimplantasi ion. Salah satu aplikasinya adalah untuk mengubah sifat-sifat bahan semikonduktor dengan teknik implantasi ion. Dengan teknik implantasi ion dapat difabrikasi rangkaian terpadu (IC) berbasis MOS (Metal Oxide
Semiconductor) atau CMOS ( Complementary MOS ) yang berupa LSI, MSI, VLSI dan ULSI. Jenis ion dopan yang digunakan sebagai proyektil pada bahan semikonduktor ialah B, P, As, In, Sb, sedangkan bahan material target 95% menggunakan silikon (Si). Arus berkas ion yang diperlukan dalam orde µA hingga 10 mA, sedangkan energi ion yang diperlukan pada range 20 keV s/d 3 MeV. Oleh karena itu untuk merealisasi
pemanfaatan laboratorium berbasis aksekelator ion untuk fabrikasi komponen mikroelektronika diperlukan
akselerator ion dengan jangkauan energi 20 keV s/d 3 MeV.