Karakteristik tabung sputtering diameter 40 cm tinggi 50 cm untuk perlakuan permukaan Fe

Telah dilakukan karakterisasi tabung sputtering untuk perlakuan permukaan (surface treatment) pada komponen industri dari bahan Fe bentuk silinder diameter 18 cm. Karakterisasi ini bertujuan untuk megetahui tingkat kevakuman, daya optimum yang dapat menghasilkan percikan maksimum, tegangan awal untuk gas Ar dan mengamati percikan atom target pada substrat. Karakterisasi dilakukan dengan menghampakan tabung sputtering, memberikan elektroda dengan tegangan DC diukur tegangan dan arus, melakukan variasi tekanan yang menghasilkan tegangan awal yang berbeda dan mengamati unsur yang terdeposisi pada substrat Fe menggunakan XRF. Dari hasil karakterisasi diperoleh hasil kevakuman optimum 4.4.10 minus 1 torr dengan waktu 2 menit, daya optimum pada tekanan gas 6.5.10 minus satu torr, tegangan awal gas Ar 300 volt dan lapisan tipis Zn pada substrat Fe rata-rata 236 cacah pada waktu pencacahan 10 menit.