Pengaruh penambahan hidrogen terhadap sifat optik dan sifat elektrik silikon amorf

Dalam makalah ini dilaporkan hasil penelitian tentang pengaruh penambahan hidrogen terhadap sifat optik dan sifat elektrik silikon amorf. Untuk tujuan tersebut, telah dilakukan deposisi lapisan tipis silikon amorf terhidrogenasi di atas substrat kaca pada kondisi tekanan 3,7 x 10 minus satu; 4,7 x10 minus satu; 5.7 x 10 minus satu Torr, suhu substrat 250:275: 300 °C, waktu deposisi 1; 1.5: 2 jam, dan perbandingan gas (H2/Ar) 10 % 15 % dan 20 %. Proses deposisi lapisan dilakukan dengan menggunakan peralatan sputtering dc, sedangkan karakterisasi sifat-sifat optik menggunakan spektrometer UV-vis dan sifat-sifat elektrik dengan metode I-V. Hasil lapisan tipis silikon amorf terhidrogenasi yang dideposisikan selama 1.5 jam, pada kondisi tekanan 3,7 x 10 minus satu: 4.7 x 10 minus satu: 5.7 x 10 minus satu Torr diperoleh nilai transmitansi berturut-turut (18-38) %; (25-41) % dan (32-42) % sedangkan untuk kondisi suhu 250; 275: 300 °C, diperoleh nilai transmitansi berturut-turut (34-42) %; (44-48) % dan (46-50) %. Transmitansi ini diukur pada panjang gelombang (600-900) nm. Hasil sifat elektrik (resistansi) optimum sebesar R(gelap) 5.255 MΩ dan Rerung 3.719 M2 dicapai, pada tekanan gas 3,7 x 10 minus satu torr, suhu substrat 300 °C. waktu deposisi 1.5 jam dan perbandingan gas (HvAr) = 10%