DEPOSISI LAPISAN TIPIS ZnO:Al PADA SUBSTRAT ALUMINA UNTUK BAHAN SENSOR GAS

Sayono, Sayono and Sujitno, Tjipto (2007) DEPOSISI LAPISAN TIPIS ZnO:Al PADA SUBSTRAT ALUMINA UNTUK BAHAN SENSOR GAS. Ganendra, 10 (2). pp. 39-46. ISSN p-ISSN: 1410-6957, e-ISSN: 2503-5029

[thumbnail of 165-294-1-SM.pdf]
Preview
Text
165-294-1-SM.pdf

Download (187kB) | Preview

Abstract

DEPOSISI LAPISAN TIPIS ZnO:Al PADA SUBSTRAT ALUMINA UNTUK BAHAN SENSOR GAS. Telah dilakukan
deposisi lapisan tipis ZnO:Al pada substrat alumina menggunakan teknik DC Sputtering untuk aplikasi sensor gas.
Deposisi lapisan tipis ZnO:Al dilakukan dengan parameter proses sputtering tegangan elektroda DC sebesar 2.2 kV,
arus 10 mA dan suhu substrat 250oC, waktu deposisi divariasi 30 - 150 menit dengan interval 30 menit dan tekanan
divariasi masing-masing : 1 ´ 10-2 atm, 2 ´ 10-2 atm, 3 ´ 10-2 atm, 4 ´ 10-2 atm dan 5 ´ 10-2 atm. Dari hasil
karakterisasi diperoleh nilai resistansi terendah sebesar 64 kΩ diperoleh pada kondisi waktu deposisi 90 menit dan
tekanan operasi 4 ´ 10-2 atm. Hasil pengukuran sensitivitas menunjukkan bahwa sensor gas dari bahan ZnO:Al
mempunyai sensitivitas tertinggi terhadap gas sensor C2H5OH sebesar 24%, untuk gas NH3 sebesar 19,77% dan
untuk gas SO2 sebesar 17,53% pada 141,54 konsentrasi/volume.

Item Type: Article
Subjects: Taksonomi BATAN > Rekayasa Perangkat dan Fasilitas Nuklir > Teknologi Proses Fasilitas Nuklir > Proses Non Nuklir
Taksonomi BATAN > Rekayasa Perangkat dan Fasilitas Nuklir > Teknologi Proses Fasilitas Nuklir > Proses Non Nuklir
Divisions: BATAN > Pusat Sains dan Teknologi Akselerator
IPTEK > BATAN > Pusat Sains dan Teknologi Akselerator
Depositing User: Administrator Repository
Date Deposited: 16 May 2018 06:56
Last Modified: 31 May 2022 03:38
URI: https://karya.brin.go.id/id/eprint/1829

Actions (login required)

View Item
View Item