Sayono, Sayono and Sujitno, Tjipto (2007) DEPOSISI LAPISAN TIPIS ZnO:Al PADA SUBSTRAT ALUMINA UNTUK BAHAN SENSOR GAS. Ganendra, 10 (2). pp. 39-46. ISSN p-ISSN: 1410-6957, e-ISSN: 2503-5029
165-294-1-SM.pdf
Download (187kB) | Preview
Abstract
DEPOSISI LAPISAN TIPIS ZnO:Al PADA SUBSTRAT ALUMINA UNTUK BAHAN SENSOR GAS. Telah dilakukan
deposisi lapisan tipis ZnO:Al pada substrat alumina menggunakan teknik DC Sputtering untuk aplikasi sensor gas.
Deposisi lapisan tipis ZnO:Al dilakukan dengan parameter proses sputtering tegangan elektroda DC sebesar 2.2 kV,
arus 10 mA dan suhu substrat 250oC, waktu deposisi divariasi 30 - 150 menit dengan interval 30 menit dan tekanan
divariasi masing-masing : 1 ´ 10-2 atm, 2 ´ 10-2 atm, 3 ´ 10-2 atm, 4 ´ 10-2 atm dan 5 ´ 10-2 atm. Dari hasil
karakterisasi diperoleh nilai resistansi terendah sebesar 64 kΩ diperoleh pada kondisi waktu deposisi 90 menit dan
tekanan operasi 4 ´ 10-2 atm. Hasil pengukuran sensitivitas menunjukkan bahwa sensor gas dari bahan ZnO:Al
mempunyai sensitivitas tertinggi terhadap gas sensor C2H5OH sebesar 24%, untuk gas NH3 sebesar 19,77% dan
untuk gas SO2 sebesar 17,53% pada 141,54 konsentrasi/volume.
Item Type: | Article |
---|---|
Subjects: | Taksonomi BATAN > Rekayasa Perangkat dan Fasilitas Nuklir > Teknologi Proses Fasilitas Nuklir > Proses Non Nuklir Taksonomi BATAN > Rekayasa Perangkat dan Fasilitas Nuklir > Teknologi Proses Fasilitas Nuklir > Proses Non Nuklir |
Divisions: | BATAN > Pusat Sains dan Teknologi Akselerator IPTEK > BATAN > Pusat Sains dan Teknologi Akselerator |
Depositing User: | Administrator Repository |
Date Deposited: | 16 May 2018 06:56 |
Last Modified: | 31 May 2022 03:38 |
URI: | https://karya.brin.go.id/id/eprint/1829 |