Susita R. M., Lely and Sayono, Sayono and Sujitno, Tjipto and Santosa, Slamet (2009) IMPLANTASI ION YTTRIUM UNTUK MENGHAMBAT LAJU OKSIDASI PADUAN TiAl PADA SUHU 800°C. Ganendra, 12 (2). pp. 59-69. ISSN p-ISSN: 1410-6957, e-ISSN: 2503-5029
151-266-1-SM.pdf - Published Version
Download (572kB) | Preview
Abstract
IMPLANTASI ION YTTRIUM UNTUK MENGHAMBAT LAJU OKSIDASI PADUAN TiAl PADA SUHU 800°C. Paduan TiAl merupakan material yang mempunyai potensi sangat besar sebagai material struktur pada temperatur menengah (600 – 850 °C) untuk industri otomotif dan ruang angkasa, karena mempunyai densitas rendah (3,8 gr/cm3) dan kekuatan mekanik yang tinggi. Pada kisaran suhu ini terbentuk lapisan nonproteksi yang menyebabkan laju pertumbuhan oksida yang cepat. Peningkatan sifat ketahanan oksidasi suatu material memerlukan rekayasa permukaan karena oksidasi biasanya dimulai dari permukaan. Dalam penelitian ini telah dilakukan implantasi ion yttrium (Y) pada permukaan paduan TiAl untuk meningkatkan sifat ketahanan oksidasi paduan tersebut. Dari hasil pengamatan difraksi sinar X pada paduan TiAl menunjukkan bahwa implantasi ion Y menyebabkan terbentuk lapisan Ti4Al43Y6 dan Y3Al2 serta lapisan oksida Y2O3, YTiO3 dan Y2TiO5 yang dapat menghambat difusi oksigen masuk ke permukaan paduan TiAl untuk membentuk lapisan oksida, sehingga mengurangi laju oksidasi paduan TiAl.