PENGARUH MEDAN MAGNET LUAR PADA LAPISAN TIPIS (Ni80Fe20) HASIL DEPOSISI MENGGUNAKAN TEKNIK DC MAGNETRON SPUTTERING

PENGARUH MEDAN MAGNET LUAR PADA LAPISAN TIPIS (Ni80Fe20) HASIL DEPOSISI
MENGGUNAKAN TEKNIK DC MAGNETRON SPUTTERING. Telah dilakukan deposisi
lapisan tipis (Ni80Fe20) pada substrat gelas menggunakan teknik DC magnetron sputtering. Untuk
maksud tersebut medan magnet yang dikenakan pada DC Magnetron Sputtering divariasi. 0; 150;
300; 450; dan 600 gauss. Sedang kondisi parameter proses sputtering lainnya dibuat konstan yaitu
suhu substrat 250 oC, tekanan 2 × 10-1 Torr, waktu deposisi 30 menit, tegangan elektrode 2 kV dan
arus 20 mA. Untuk mengamati gejala magnetoresistansi, lapisan tipis (Ni80Fe20) dikenai medan
magnet luar dari 0 hingga 15 gauss dan perubahan resistansinya diukur menggunakan probe empat
titik. Dari hasil pengamatan magnetoresistansi diperoleh hasil bahwa magnetoresistansi optimum
sebesar 4,34 % dicapai pada medan magnet DC magnetron sputtering sebesar 150 gauss. Dari
analisa struktur kristal menggunakan XRD teramati puncak-puncak Fe2O3 (110), NiFe (111), NiO
(200) dan Fe3O4 (211).