EFEK IMPLANTASI ION Mg DAN Y TERHADAP SIFAT KETAHANAN OKSIDASI MATERIAL MA 956

Sujitno, Tjipto and Susita R. M., Lely and Suprapto, Suprapto (2002) EFEK IMPLANTASI ION Mg DAN Y TERHADAP SIFAT KETAHANAN OKSIDASI MATERIAL MA 956. Ganendra, 5 (2). pp. 7-16. ISSN p-ISSN: 1410-6957, e-ISSN: 2503-5029

[thumbnail of EFEK IMPLANTASI ION Mg DAN Y TERHADAP SIFAT KETAHANAN OKSIDASI MATERIAL MA 956]
Preview
Text (EFEK IMPLANTASI ION Mg DAN Y TERHADAP SIFAT KETAHANAN OKSIDASI MATERIAL MA 956)
JURNAL_B.A.TJIPTO SUJITNO_PSTA_2002.pdf - Published Version
Available under License Creative Commons Attribution Non-commercial Share Alike.

Download (627kB) | Preview

Abstract

EFEK IMPLANTASI ION Mg DAN Y TERHADAP SIFAT KETAHANAN OKSIDASI MATERIAL MA 956. Dalam makalah ini disajikan hasil penelitian tentang pengaruh implantasi ion Magnesium dan Yttrium terhadap sifat ketahanan oksidasi material MA 956. Untuk maksud tersebut material MA 956 diimplantasi dengan ion Magnesium dan Yttrium pada doses Ion 1 x 1017 ion/cm2 dan pada energi 100 keV. Untuk mengetahui pengaruh sifat ketahanan oksidasinya, sampel dipanasi pada temperatur 1100 oC dalam udara yang mengandung oksigen selama 100 jam dengan menggunakan TGA (Thermogravitymetry). Disamping itu juga telah dilakukan analisa struktur mikro menggunakan SEM dan analisa komposisi kimia menggunakan EDX, dari pengujian yang telah dilakukan diperoleh hasil bahwa untuk benda uji yang tanpa diimplantasi, untuk benda uji yang diimplantasi dengan ion Magnesium dan dengan ion Yttrium dengan waktu oksidasi 100 jam, laju oksidasinya masing-masing sekitar 0.54 mg/cm2., 0,48 mg/cm2 dan 0,40 mg/cm2. Sedangkan dari analisa struktur mikro potongan melintang terlihat bahwa ketebalan lapisan oksida masing-masing adalah sekitar 0 67μm. 0,3μm dan 0,25μm. Dari hasil tersebut dapat disimpulkan bahwa dengan adanya implantasi elemen reakif Magnesium maupun Yttrium mampu menghambat laju oksidasi dari 0,54 mg/cm2 menjadi 0,48 mg/cm2 untuk material yang diimplantasi dengan ion Magnesium dan dari 0,54 mg/cm2, meyadi 0,40 mg/cm2 untuk materialyang diimplantasi dengan ion Yttrium.

Item Type: Article
Subjects: Taksonomi BATAN > Rekayasa Perangkat dan Fasilitas Nuklir
Taksonomi BATAN > Rekayasa Perangkat dan Fasilitas Nuklir
Taksonomi BATAN > Rekayasa Perangkat dan Fasilitas Nuklir > Teknologi Proses Fasilitas Nuklir > Proses Non Nuklir
Taksonomi BATAN > Rekayasa Perangkat dan Fasilitas Nuklir > Teknologi Proses Fasilitas Nuklir > Proses Non Nuklir
Divisions: BATAN > Pusat Sains dan Teknologi Akselerator
IPTEK > BATAN > Pusat Sains dan Teknologi Akselerator
Depositing User: Administrator Repository
Date Deposited: 31 May 2018 05:39
Last Modified: 31 May 2022 03:55
URI: https://karya.brin.go.id/id/eprint/2700

Actions (login required)

View Item
View Item